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研发工程师（博士）

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职位说明：

广州新锐光掩模科技股份有限公司成立于2021年2月，坐落于广东省广州市黄埔区中新知识城集成电路产业园，是国内独立光掩模生产制造商，聚焦于高端半导体光掩模的研发与产业化生产，提供光掩模版制造、光掩模保护膜贴膜、定期品质检测、光掩模去膜修补和清洗、光刻相关咨询等服务。

光掩模是集成电路关键工艺光刻流程所必须的基础材料，激光投影将光掩模图像非常高效快速地重复印刷至硅片上，从而实现超大规模的集成电路芯片生产。掩模版是光刻复制图形的基准和蓝本，其分辨率水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。